【技术】ASML展望EUV光刻工艺与新机器
在今年的 IEDM 会议上,芯片行业展望了未来十年的工艺制程。作为其中最重要的一环,显然离不开对 ASML 极紫外(EUV)光刻技术的讨论。这项技术的早期采用,可追溯到 2013 年。但直到 2017 年,产能才突破了 100 万片 300mm 晶圆。2018 年的时候,产能增加了 90 万片。2019 年,华为麒麟 990 5G / 高通即将推出的骁龙 700 系列 / 以及三星自家的 EUV 芯片,又增加了 250 万片晶圆。
2019-12-12
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