SK海力士与Lam Research合作提升DRAM生产效率 ssd新闻存储新闻

2022-06-17

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据韩媒BusinessKorea报道，半导体设备厂商Lam Research正在与SK海力士合作通过提升干式光刻胶技术提升EUV曝光效率从而提高DRAM生产效率。

此前，Lam Research与ASML和比利时半导体研究所Imec合作开发了干式光刻胶技术。近日，Lam Research宣布将向SK海力士提供干式光刻胶底层和干式显影工艺设备。

Lam Research等开发的干式光刻胶通过诸如化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)之类的操作形成薄膜。该技术有望提高EUV工艺分辨率并降低成本。

据Lam Research称，由于干式光刻胶技术使用的原材料比湿法光刻胶少5到10倍，并且可以减少照射的光量，因此很容易降低成本。

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