据韩媒BusinessKorea报道, 韩国三星电子和荷兰半导体设备龙头ASML已签署备忘录,将共同投资7亿欧元,在韩国打造半导体技术研发中心,目标是开发下一代EUV光刻技术的超精细制程和设备。报道指出,两间公司具体投资金额尚未公布,研发中心可能选址京畿道华城,因为三星和ASML都有半导体生产基地。目前ASML正在建设华城新园区,于三星半导体厂附近投资2400亿韩元,占地16000平方公尺,计划2024年底完工。据悉,该园区将包括EUV和DUV设备元件的再制造中心和培训中心。报道表示,三星期盼透过改善EUV光刻设备制程来实现良率,ASML则决定与三星合作,获得下一代存储光刻制程的专业知识。业界认为,存储和设备领域龙头间的联盟意义重大,EUV对代工厂的制程至关重要,也成为DRAM制程的关键技术。DRAM从14纳米制程开始,由于产量和生产成本问题,必须开始使用EUV设备,因此EUV联盟对开发下一代存储制程相当重要。汉阳大学融合电子系教授Park Jae-keun认为,至少在未来10年内,DRAM生产将需要应用EUV制程。由于三星、SK 海力士和美光这前三大存储公司间的EUV竞争才刚开始,三星与ASML的合作有望暂时保持在市场上的主导地位。
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