韩媒传出,高带宽内存(HBM)的良率远低于传统内存产品,通过英伟达品质测试的难度大增,让市场对产量感到忧虑。Wccftech引述韩国媒体DealSite报道,美光、SK 海力士等HBM厂商面临良率低迷窘境,为了通过英伟达次世代AI GPU的品质测试,彼此正在激烈竞争。HBM良率高低,主要跟堆叠架构的复杂程度有关,这牵涉到多重内存阶层,及作为各层连结之用的直通硅通孔(Through-Silicon Via,简称TSV)技术。这些复杂技术增加制程出现缺陷的机率,可能因此让良率低于设计较简单的内存。此外,由于HBM一旦有一个芯片有缺陷,整个封装都需丢弃,因此产量很低。消息显示,HBM的整体良率目前约在65%左右,若业者试图拉高良率,产量就会随之下降。美光已于2月26日宣布,开始量产HBM3E,将应用于英伟达最新AI芯片「H200」Tensor Core绘图处理器(GPU)。H200预定2024年第二季出货,取代当前算力最强大的H100。
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