据韩媒Thelec报道,三星正在考虑在其下一代DRAM中应用模压填充(MUF)技术。三星最近测试了一种用于3D堆栈(3DS)内存的MR MUF工艺,与TC NCF相其吞吐量有所提升,但物理特性却出现了一定恶化。经过测试,该公司得出结论,MUF不适用于高带宽内存(HBM),但非常适合3DS RDIMM,而目前3DS RDIMM使用硅通孔(TSV)技术制造,主要用于服务器。MUF是一种在半导体上打上数千个微小的孔,然后将上下层半导体连接的TSV工艺后,注入到半导体之间的材料,它的作用是将垂直堆叠的多个半导体牢固地固定并连接起来。另外,三星正计划与三星SDI开发自己的MUF化合物,消息人士称,三星还订购了MUF应用所需的设备。尽管如此,三星预计还将继续在其HBM生产中使用TC NCF技术,预计美光也将这样做,该技术在避免晶圆翘曲方面更有优势。
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