随着全球半导体行业的竞争已经进入到了“下半场”，台积电和三星在7nm正打得火热，但两边手里的“武器”，也就是极紫外光刻（EUV）光刻机，均是来自于ASML。

曾经，一直传言受西方《瓦森纳协议》的限制，中国只能买到ASML的中低端产品，但ASML后来正式澄清，其最高端的EUV光刻机进口到中国大陆完全没有问题。

那么近两年以来，大陆有哪些集成电路制造商引进了ASML的设备呢？ 

中芯国际：1.2亿美元的EUV光刻机

去年5月，中芯国际向ASML订购了一套EUV设备，据传是当时最昂贵和最先进的芯片生产工具，价值高达1.2亿美元，这一设备预计将于2019年年初交付。

知情人士表示，1.2亿美元的价格和2019年的交货时间可能不准确，但订单是真实的。他还指出，如果价格是1.2亿美元，台积电和三星的价格也不会低于这个数目。也就是说，ASML给到中芯国际的价格已经很便宜了。

根据价格推测，中芯国际订购的这台EUV光刻机的型号应该是Twinscan NXE：3400B，这是当时市面上最先进的EUV光刻机设备。

据ASML官网显示，这台价值1.2亿美元的天价设备，能够支持精细到5nm工艺节点的批量生产，由此也可以见得，14nm不是中芯国际的最终目标，7nm时代并不会太遥远。

在其他数据方面，该设备采用了卡尔蔡司SMT全反射4倍光学变焦镜头组件，最大曝光范围为26mm×33mm，拥有每小时155片的300mm尺寸晶圆雕刻能力。

要知道，这台价值EUV设备的价值大致相当于中芯国际2017年的1.26亿美元净利润，半导体行业专家莫大康曾表示这是为研发做准备的大投资，但不能高兴的太早，因为设备出口许可证，ASML说了不算，还要听美国的。

不过，ASML今年还将推出产能更高的新型号Twinscan NXE: 3400C，每小时晶圆雕刻能力将从155片提升至170片，并换装了Cymer公司的340W光源。这样一来，预计3400B运抵中芯国际厂区的时候，已经不再是市面上最先进的EUV设备了。

长江存储：NXT 1980Di

就在中芯国际下单EUV光刻机几天后，长江存储购买自ASML的光刻机也运抵了武汉天河机场，陆续还有多台进厂。 

这台光刻机为ASML的193nm浸润式光刻机, 型号为NXT 1980Di，售价达7200万美元（约合人民币4.6亿元），用于10nm级（14～20nm）的晶圆生产。

据了解，长江存储在2016年启动了位于武汉的国家存储器基地的建设，总投资高达240亿美元，按计划，2020年月产能将达到30万片。

华虹六厂：喜提14nm关键设备

去年5月21日上午，华虹集团旗下上海华力集成电路制造有限公司建设和营运的12英寸先进生产线建设项目（“华虹六厂”）首台工艺设备光刻机正式进厂。 

这台ASML的光刻机型号与长江存储的193nm双级沉浸式光刻机一样，都是NXT 1980Di，这两台也是当时大陆装备的最先进的沉浸式光刻设备。 

华力12英寸先进生产线建设项目是上海市最大的集成电路产业投资项目，总投资387亿元人民币，将建成月产能4万片的12英寸集成电路芯片生产线，工艺覆盖28-14纳米技术节点。

预计该生产线将于2022年底建成达产，未来主要从事逻辑芯片生产，重点服务国内设计企业先进芯片的制造，并满足部分事关国家信息安全的重点芯片制造需求。

SK海力士（无锡）：如期而至的NXT:2000i

去年8月，ASML曾表示已经开始出货新设备Twinscan NXT:2000i DUV（NXT:2000i双工件台深紫外光刻机），可用于7nm和5nm节点，并表示不久后就将进入大陆。

ASML果然没有食言，去年12月19日晚间，中国首台ASML NXT:2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。 

NXT:2000i将是NXE:3400B EUV光刻机的有效补充，台积电的第一代7nm全部采用了DUV工艺，在第二代7nm工艺(CLNFF+/N7+)，台积电首次应用了EUV，不过仅限四个非关键层，其他关键层仍然使用的是DUV工艺。

作为当前ASML旗下套刻精度（overlay）最高的产品，NXT:2000i达到了和3400B一样的1.9nm（5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm）精度。 

无锡是SK海力士在中国的DRAM内存芯片生产基地，目前每月晶圆的产量约为14万片。另外，SK海力士还成立了SK Hynix System IC公司，开始进军晶圆代工市场，同时增加1000万美元投资，在无锡扩大了模拟IC芯片业务。

粤芯：神秘的运输车

今年3月15日，广州粤芯半导体在广州举行了主设备进场仪式。日前，曾有数台载有半导体设备的运输车进入了粤芯的厂区，其中就有一台格外引人注目，因为其车厢外部印有ASML商标。 

据集了解，粤芯半导体项目是国内第一座以虚拟IDM (irtuallDM)为营运策略的12英寸芯片厂，也是广州第一条12英寸芯片生产线，一期目标产能为4万片每月，投资高达100亿元。

粤芯半导体目前的工艺覆盖90nm到180nm，产品主要包括微处理器、电源管理芯片、模拟芯片、功率分立器件等。二期工程建成后，能满足物联网、汽车电子、人工智能、5G等创新应用的模拟芯片需求，届时工艺覆盖将为40nm到65nm。

单以工艺节点的覆盖来推测的话，这台ASML的设备，有可能是Twinscan NXT:1965Ci，该设备能满足20nm级别的光刻工艺需求。

鞋是别人的，路还要靠自己走

ASML去年的净销售额为109亿欧元，净收入为26亿欧元。仅第4季度就收到了5个EUV设备订单。按计划，今年更将出货30台EUV设备，其中包括DRAM客户的首批批量生产系统。

中国大陆的半导体制造目前还落后于世界一流水平两至三代，虽然如今有ASML先进的硬件设施鼎力相助，但还需要自身工艺研发方面取得突破。

如今，就连台积电和三星这样的大厂都要看ASML的脸色行事，没有ASML提供设备，他们的先进工艺研发也会受阻。中国半导体产业在追赶世界第一梯队的路上，半导体设备国产化具有重要战略意义。

虽然去年出现过一台号称能做10nm的国产光刻机，但后来澄清了这台只是原理机，不专业的报道一度引得国人拍手叫好。其实，国内也有像中微半导体和北方华创这样有实力的半导体设备厂商，虽然与ASML有一定实力差距，但要想不受制于人，只有自主研发一条路。