可用于130nm工艺，国产高端光刻胶量产 ssd新闻存储新闻

2023-03-14

阅读量 1452

3月13日，晶瑞电材在投资者互动平台表示，公司子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到了0.25-0.13μm的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF高端光刻胶部分品种已量产。

晶瑞电材是国内最早从事光刻胶生产的企业之一，目前已经取得合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子、中芯国际等国内企业的供货订单。

作为芯片产业链上的重要一环——光刻胶，是由树脂，感光剂，溶剂，光引发剂等组成的混合液态感光材料。原理是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出需的图形的目的。如果把光刻机理解为一台胶片相机，它要使用的胶片就是光刻胶。

按照曝光波长不同，光刻胶可以分为g线，i线、KrF、ArF、以及EUV几种，其中KrF、EUV和ArF光刻胶主要被应用于集成电路，属于高端光刻胶。由于在芯片生产中是不可或缺的重要原料，光刻胶也因此被称为「半导体材料皇冠上的明珠」。

点击此处关注，获取最新资讯！

1.本文整理自网络，如有侵权，请联系删除。

2.所刊内容仅代表作者观点，非闪德资讯立场。

请登录后评论