据日经报导，富士胶片控股公司和住友化学将最早在2021年开始提供用于下一代芯片制造的材料，这将有助于智能手机和其他设备向更小、更节能等趋势发展。

这两家日本公司正在研究用于极端紫外线光刻的特殊光刻胶，其中复杂的电路用特殊的光进行图案化。光敏光致抗蚀剂用作该图案化过程的涂层。新厂商的进入将推动由日本供应商主导的EUV光刻胶市场竞争。JSR和Shin-Etsu Chemical等日企控制着EUV所用光刻胶的全球市场约90％。

富士胶片正投资45亿日元（4,260万美元），在东京西南部的静冈县生产工厂配备设备，最早将于明年开始批量生产。该公司表示，使用该产品，残留物更少，从而减少了有缺陷的芯片。

同时，住友化学将在2022财年之前为大阪的一家工厂提供从开发到生产的全方位光刻胶生产能力。由于其强大的市场，该公司已经达成了向大型制造商提供产品的临时协议。

苹果计划在新iPhone中使用采用EUV技术制造的芯片，主要供应商台积电已导入EUV技术批量生产产品。新的光刻胶将有助于推动芯片制造的改进。目前市场上最小的芯片采用5nm技术。台积电和其他厂商的目标是将3nm芯片商业化。三星电子和英特尔也在努力采用EUV技术。

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