美光解散上海DRAM设计团队,或意在防技术外泄

2022-01-26
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1月25日,集微网消息指出,美光科技正在解散150人左右规模的上海研发中心,并挑选了40多位核心研发人员提供术移民美国的资格。


针对上述消息,媒体在向多位美光前员工与在职员工求证后获悉,美光此次并非解散整个上海研发中心,而是仅仅解散了DRAM设计部门,该部门总人数超过100人。除了该团队,美光上海研发中心还包括销售、测试等多个部门。另外,美光目前在西安的工厂也不会发生其他异动,该厂主要开展集成电路装配与测试以及DRAM模块制造。


据一位前美光员工透露,美光的DRAM设计团队此前有一大波人员流失至国内的本土IC设计公司和存储大厂。


某半导体行业高管评论称,美光解散DRAM设计团队很有可能是出于防止技术外泄的考虑,虽然目前国内的DRAM企业数量相对较少,但未来几年内或有可能涌现出新的几家DRAM制造商,而且现有的DRAM企业也正求贤若渴,美光此举或是想将产品的设计和研发收拢至中国大陆以外地区。


美光保护知识产权保的行动早已展开,此前美光就曾因商业机密泄露将联电告上法庭,曾与长江存储、长鑫存储一道被并称为「中国存储三雄」的福建晋华,也因为美光的行动被美国商务部列入「实体清单」而长期停摆,几乎消失于公众视野中。

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