SK海力士:正积极争取为无锡存储工厂引进EUV光刻机

2021-11-24
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据韩媒Korea IT News消息,本月22日,韩国半导体工业协会成立30年纪念活动期间,SK海力士CEO Seok-hee Lee(李锡熙)和媒体交流时谈到了无锡海力士半导体工厂相关情况。

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关于EUV光刻机进厂可能延期的问题,李锡熙表示,正与美方合作,进展良好。EUV光刻技术已经在韩国本土的DRAM产线上应用,中国工厂还有充足的时间供斡旋沟通。

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