力旺IP导入华邦电25纳米DRAM制程平台

转载: 半导体观察 2019-06-26
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IP公司力旺电子25日宣布其一次可编程(OTP)存储器硅智财NeoFuse成功导入华邦电25纳米DRAM制程平台,且即将进入量产阶段,有助于客户在车用、工业、5G通信等新的市场应用取得先机。

NeoFuse硅智财使DRAM产品在封装前的芯片测试及封装后的产品测试均可进行修补,达到多次修补(Multi-Repair)的目的。与传统雷射调校(Laser Trimming)相比,不仅降低调校成本与时间,并可使制造测试流程更加便利。尤其是在芯片封装后仍可进行修补(Repair),大大提升多芯片封装(MCP)产品的生产良率。

可兼容于DRAM制程平台的NeoFuse技术提供优于一般工作范围的操作电压区间,有利客户在产品设计上具备弹性并有效降低功耗。此外,NeoFuse的高编程良率,只需一次编程便可将资料成功写入,可大幅降低操作复杂性和测试成本。

力旺业务发展中心副总何明洲表示,力旺硅智财解决方案已成功地导入各类型的芯片应用。与华邦电共同合作,将力旺的NeoFuse导入25纳米DRAM制程,将使整体产品测试更加灵活,更有效率地提供符合高端客户与应用需求的产品。

力旺与华邦电对双方来说均是重要里程碑,除现阶段在25纳米DRAM制程的合作外,未来更进一步携手进行NeoFuse在二代DRAM制程的开发计划,预计在不久后即可完成布局。

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