一颗存储芯片的诞生，需要经过上千道高精度的制造工艺，方能“百炼成钢”，而光刻机是制造芯片最重要的设备。因为美国的制裁，中国企业无法购买ASML的先机光刻机，此前，中芯国际因迟迟没有收到EUV光刻机，在芯片生产上比台积电等慢了很多，日前，中芯国际已经与ASML展开了谈判。

中国企业尽管受到了美国禁令的限制，但是仍可以购买非美国技术的光刻机，比如佳能的。据日经中文网消息，日本佳能将于2021年3月发售新型光刻机FPA-3030i5a，该设备使用波长为365纳米的i线光源，支持直径从2英寸到8英寸的小型基板。据佳能介绍，这个光刻机与以往机型相比，生产效率提高约17％。

光刻机作为制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。在光刻机市场上，荷兰的ASML，日本的尼康与佳能三大企业占据了全球光刻机市场约9成的市场份额。

建造一个晶圆厂需要花费几十亿的金钱，还不一定能成功，有很多可能出现烂尾，而买光刻机就是一个头疼的事情。尽管建厂难，但是这个市场前景广阔。据国外媒体报道，2020年疫情带来了居家办公和娱乐设备需求增加，同时，5G智能手机增长迅速，全球芯片代工市场在2020年增长很快，预计规模达到了846.52亿美元，同比增长率高达23.7%。很多专家预测，2021年，经济将会有一定程度的复苏，对5G智能手机、物联网设备、服务器、笔记本电脑、电视、消费电子产品和汽车等需求增加，芯片代工的前景仍是值得期待的。

在芯片产业，有三种模式，一是IDM，还有Fabless和Foundry。近日，IC Insights发布报告，预测2020年无晶圆厂的IC销售额，即Fabless模式有望达到全球总销售额的32.9％，创历史新高。这些企业都需要芯片制造厂，这也是国内芯片制造厂的机遇，不断出现的厂也需要更多的光刻机。

（图源上海微电子）

目前，光刻机市场被国外企业垄断，国内能自主生产光刻机的企业就是上海微电子了，它的产品主要采用ArF、KrF和i-line光源，目前制程在90nm。据上海微电子发布的新闻稿，他们将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产浸入式光刻机，国产光刻机有望从此前的90nm工艺一举突破到28nm工艺。光刻机这个难题注定将伴随着我们芯片产业很长一段时间，采购国外的产品也是一个长期困扰企业的难题。

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