长鑫存储公开「存储器的制造方法和存储器」专利

2022-03-28
阅读量 2825


天眼查显示,长鑫存储技术有限公司近日新增多条专利信息,其中一条名称为「存储器的制造方法和存储器」,公开号为CN114242659A。


专利摘要显示,本发明实施例提供一种存储器的制造方法和存储器存储器的制造方法包括:提供基底以及位线接触层;在位线接触层的顶部形成伪位线结构;在伪位线结构的侧壁及位线接触层的侧壁形成间隔层;在间隔层的侧壁形成介质层;形成填充相邻伪位线结构之间的区域的牺牲层,且牺牲层覆盖介质层的侧壁;在形成牺牲层之后,去除伪位线结构,形成露出位线接触层的通孔;形成填充通孔且覆盖位线接触层的位线导电部;形成位线导电部后,去除间隔层,形成介质层和位线导电部之间的间隙。本发明实施例中位线导电部与介质层之间具有间隙,能够降低寄生电容,提高存储器的运行速度,降低存储器的功耗。



点击此处关注获取最新资讯!

f328f6db93164f84bb23c090c28e7db.png88c1a0acd98aa6023fcbfa1f2ebf421.png


1.本文整理自网络,如有侵权,请联系删除。

2.所刊内容仅代表作者观点,非闪德资讯立场。

我的评论

登录后评论

最新评论

渠道报价
查看更多

D4/32G-DDR 4

  • 一年
  • 半年
  • 三个月
  • 一个月

微信订阅

APP下载

存储未来,赢得先机

18126200184

Copyright©2008-2024 闪德资讯 版权所有 粤ICP备18080549号-1

粤公网安备 44030402002744号