请输入手机号
长鑫存储公开「存储器的制造方法和存储器」专利
天眼查显示,长鑫存储技术有限公司近日新增多条专利信息,其中一条名称为「存储器的制造方法和存储器」,公开号为CN114242659A。专利摘要显示,本发明实施例提供一种存储器的制造方法和存储器,存储器的制造方法包括:提供基底以及位线接触层;在位线接触层的顶部形成伪位线结构;在伪位线结构的侧壁及位线接触层的侧壁形成间隔层;在间隔层的侧壁形成介质层;形成填充相邻伪位线结构之间的区域的牺牲层,且牺牲层覆盖介质层的侧壁;在形成牺牲层之后,去除伪位线结构,形成露出位线接触层的通孔;形成填充通孔且覆盖位线接触层的位线导电部;形成位线导电部后,去除间隔层,形成介质层和位线导电部之间的间隙。本发明实施例中位线导电部与介质层之间具有间隙,能够降低寄生电容,提高存储器的运行速度,降低存储器的功耗。
点击此处关注,获取最新资讯!
1.本文整理自网络,如有侵权,请联系删除。
2.所刊内容仅代表作者观点,非闪德资讯立场。
我的评论
最新评论