荷兰将对DUV管制出口，限制对准精度2.5纳米以上 ssd新闻存储新闻

荷兰将对DUV管制出口，限制对准精度2.5纳米以上

2023-03-21

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据台媒《经济日报》报道，荷兰方面在3月8日时表示，计划针对半导体技术出口实施新的管制，这些管制措施将在2023年的夏天之前开始实施。对此，荷兰商光刻机设备大厂ASML在隔天随即宣布，ASML生产的DUV深紫外光光刻机设备预计必须申请许可证才可以出口。

ASML在声明中强调，荷兰政府新的出口管制措施并不针对所有沉浸式光刻机设备，先进程度相对较低的沉浸式光刻机设备已能满足以成熟制程为主的客户的需求。市场人士表示，虽然荷兰政府新的管制措施并没有说明针对哪一个国家。但是，ASML的声明则是显示了就是针对以当前主力发展成熟制程的中国而来。

另外，报道强调，荷兰方面的宣布并未提及在服务方面会采取什么样的限制措施。因此，市场人士表示，已完成进口的DUV光刻机设备大都还处在关键部零组件的设计寿命内。一般来说， DUV光刻机设备必须6个月进行一次维护，以替换或维修老化和损耗零组件。所以，只要正常维护保养就暂时对生产没有影响。

另外，按照目前市场解读，不受出口限制的DUV光刻机设备将停留在对准精度达2.5纳米的水准的设备。而ASML已经问世的DUV光刻机设备中，现阶段对准精度最高的是可达到1.5纳米的NXT:2050i机型。

报道进一步指出，所谓对准精度，指的是光刻机设备在进行芯片制造之际，在对准芯片和光罩图案时能够达到的最高精度。对准精度一般以纳米衡量，纳米数值越小，产品越先进。至于，所谓沉浸式光刻机设备是属于光源193nm的产品，可以被用于16纳米至7纳米的先进制程芯片生产。但是，目前被业界广泛应用在45纳米及以下的成熟制程生产过程当中。

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