铠侠、佳能合推纳米压印技术,2025年有望挑战ASML EUV

2022-11-25
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综合多家日媒报道,日本微影设备厂商佳能日前在法说会上证实,将在日本斥资逾500亿日圆,在日本中部栃木县兴建新厂,扩增其微影设备产能,佳能表示该厂房将于2023年兴建,预计从2025年开始营运。

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从设备试产、晶圆厂试运行,再到新厂生产线投产设备,日企欲通过半导体「纳米压印」技术追赶ASML的脚步推进。佳能、大日本印刷与铠侠合作,自2017年起在铠侠四日市工厂启动纳米压印的试制设备测试运行后,如今在技术层面上,已有推向商业化导入的时间表。
以最乐观进程预估,2025年佳能可望交出能与ASML EUV曝光机台一较长短的晶圆厂量产设备,据日经亚洲报导指出,纳米压印技术微影设备现阶段支援15nm制程,但将力争进一步推进制程微缩,初期将导入生产DRAM、PC用CPU等,未来还可望应用在手机AP等极需高阶先进制程的逻辑IC生产。

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