联电和英特尔宣布新晶圆代工合作,预计2027年投产

2024-01-26
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据台媒《财经新报》报道,晶圆代工厂联电和处理器龙头英特尔共同宣布,双方将合作开发12纳米制程平台,以应对移动、通讯基础建设和网络等市场的快速成长。这项长期合作结合英特尔位于美国的大规模制造产能,和联电在成熟制程上丰富的晶圆代工经验,以扩充制程组合,同时提供更佳的区域多元且具韧性的供应链,协助全球客户做出更好的采购决策。

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此项12纳米制程将善用英特尔位于美国的大规模制造能力和FinFET 电晶体设计经验,提供兼具成熟度、性能和能耗效率的强大组合。受惠于联电在制程上的领导地位,以及为客户提供PDK及设计支援方面的数十年经验,得以更有效地提供晶圆代工服务。新的制程将在英特尔位于美国亚利桑那州Ocotillo Technology Fabrication的12、22和32厂进行开发和制造,透过运用晶圆厂的现有设备将可大幅降低前期投资,并最佳化利用率。
事实上,不久前市场就传出联电传出技转12纳米先进制程技术予英特尔、获百亿元授权金的消息。尤其,联电确有先进制程技术,其中14纳米Finfet 制程性能更达业界竞争水准,也积极推进12纳米制程。对此,市场人士表示,英特尔一旦真的百亿元取得联电授权,之后在到其他地区进行生产,做法不符合效益。所以,就由直接下单委外,才能具有其成本竞争优势。
另外,过去联电传出技转12纳米先进制程技术予英特尔以具备优势Arm架构为主,这与对主攻x86架构的英特尔产生互补。而过去英特尔有采用Arm架构的相关经验,如基础设施处理器(IPU)、及开发基于Intel 18A制程的低功耗系统单芯片(SoC),透过与Arm的合作关系,强化终端应用领域的版图。 因此,先前传出联电技转12纳米制程Arm架构,市场推测英特尔可能正在为Fab完全拆分奠定基础,率先寻找各项IP技术授权预先准备。

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