ASML 将会继续努力，发展成为深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻设备的最大供应商，并从中受益。但是，其未来的道路有些坎坷。

 2019 年第三季度收益

ASML 预测今年的销售额将达到 117 亿欧元，其中：收入从 26 亿欧元增加到 30 亿欧元，净收入从 4.76 亿欧元增加到 6.27 亿欧元，第四季度的预期销售额为 39 亿欧元。如果达到这些目标，他们将再创销售纪录。

该公司在第三季度财报上表示，其毛利率可能从 43.7%跃升至 48-49%。利润率的预期提高归因于容量增加、均价、深紫外产品组合、EUV 服务销售额的提高。

ASML 认为市场需求是其乐观预期的原因。在 Q3 的财报中：

ASML 预计第四季度销售和盈利都将非常强劲，这再次受到对 EUV 和 DUV 强劲需求的推动。由于需要高性能计算的终端市场应用（例如 5G 和 AI）推动了这一趋势，这进一步证实 2019 年将是需求强劲的一年。随着客户加快 7nm 及以上的爬坡计划，这也是促进 EUV 需求的一大动力。

EUV 正在取得进展

ASML 还报告了 EUV 在几个领域的进展，这被认为是未来增长的关键。ASML 在第三季度出货了 7 台 EUV，其中有三台是型号为 NXE:3400C 的最新 EUV。预计第四季度将增加到 8 台。第三季度又有 23 台 EUV 订单，创下单季度最高纪录。到 2020 年，总共将交付 35 台。 更重要的是，它们将是最终配置的 NXE：3400C 机型。

Q3 财报表示：

在明年的 35 个系统中，确实包括了从 2019 年推迟到 2020 年的 4 个。我们在 2020 年研究的中将使用最终配置的 3400C 系统。因此，这就是计算 2020 年收入的方法。

这些新系统不仅比上一代具有更高的价值，而且生产效率更高，它们每小时可以加工更多的晶圆。

正如我们之前所说，在 3400C 的产量上，满机的产量是 170，比 B 机的 125 提高了 30％以上。

公司不愿采用 EUV 的主要原因之一是因为当前系统的生产率相对较低。 30+的长应该会带来很大的不同。

尽管差距较小，但 EUV 的产量仍远低于某些 DUV 系统的 275 片晶圆。ASML 可能会通过增加光源的功率输出来提高产量。生产率提高应该会激励企业开始使用 EUV，这将使 ASML 这家唯一的 EUV 供应商受益。

此外，ASML 认为 EUV 的利润率可以达到上一代的水平。目前，EUV 的利润率约为 30％，远低于 DUV 的 50%。但 ASML 乐观地认为，它可以改变这一状况。

如果 DRAM 市场复苏，那么到 2020 年还有上升的空间。大部分需求来自于内存滞后的爆发。如果内存恢复速度快于预期，ASML 可能会在设备支出方面获得意外之财。

 中美战争正逼近 ASML

ASML 似乎正在全力以赴，但有一个因素可能会破坏这场盛宴。中美两国卷入了一场所谓的“技术战争”， 虽然美国在贸易战中对中国进口商品征收关税，但贸易战使越来越多的中国科技公司受到美国政府制裁。

例如，华为今年 5 月被列入实体名单，这限制了其从美国公司获得供应的能力。然而，美国在与华为的较量中并没有像许多人预期的那样成功。事实上，华为报告称，尽管被列入黑名单，但其第三季度营收仍然增长了 27%，部分原因是华为有能力用在中国设计的芯片替代美国的半导体芯片。

但所有这些芯片设计都必须在配有光刻机的晶圆厂制造，而最常使用的就是 ASML 的光刻机。这为美国政府开辟了一条道路，如果美国在对付中国方面没有那么成功，那么可能需要改变策略，尝试阻止中国制造芯片便是一种方法。

由于 ASML 的重要零件来自美国，因为美国可以通过阻止 ASML 设备的交付来削弱中国科技公司的实力。例如，Cymer 提供光源，并且它位于美国，光源是光刻机和光学镜头中最关键的部件之一。拒绝使用 Cymer 光源，可以在很大程度上说服 ASML 与美国政府合作。

在 2018 年下半年与 2019 年上半年中，ASML 对中国的销售额分别为 8.49 亿欧元和 5.94 亿欧元。中国是半导体设备增长最快的市场之一，限制中国销售将会给 ASML 带来打击。

从长远来看，无法向中国出售可能会产生另一种影响。众所周知，中国正在研制自己的光刻设备，例如，中国在 2018 年披露了一款光刻机，声称它可以在一次曝光的情况下生产 22nm 芯片。如果与其他分辨率增强技术(如多图形)结合使用，则该机器可用于制造 10nm 或 7nm 的芯片。但是，由于需要大量的掩膜层，生产过程可能成本过高且在经济上不可行。

最不寻常的是，中国声称要使用一台依靠 365nm 波长光源的机器来完成所有这些工作，该机器将其置于 NUV 光谱范围内，并接近可见光的波长。相反，DUV 通常依赖于 193nm 的波长，EUV 依赖于 13.5nm 的波长。

从理论上讲，使用较长的波长会能使机器的制造和操作成本更低等好处。EUV 的主要障碍之一是，能够输出 13.5nm 光的光源非常少，而且必须保持在真空中。这台中国机器的缺点是它目前的产量太低，无法在晶圆厂使用。但每小时增加晶圆数量是可以解决的。实际上，这是中国研究人员提到的一个重点领域，他们打算在其机器的更新版本中加以改进。

供应中断的威胁可能会导致中国加快引入这些更新的机器。这些机器可能无法与 7nm 以上的 EUV 机器竞争，但可以对抗 DUV 机器。如果是这样的话，ASML 可能会在不久的将来遇到同行供应商。

 结论

ASML 是光刻机的主要供应商，竞争日趋激烈。在 EUV 时代，随着 ASML 成为 EUV 机器的唯一供应商，这一点可能变得更加明显。ASML 有望从先进的半导体芯片需求增长的长期趋势中受益，这些芯片只能在最先进的晶圆厂中制造，而这些晶圆厂又必须配备 ASML 的最新光刻机。

然而，与中国的科技战争缺乏进展，可能会迫使美国探索新策略，其中之一就是拒绝中国从 ASML 获得先进的光刻设备。中国的对抗时间越长，美国就越有可能尝试这种做法。

这不仅会降低 ASML 在快速增长的市场中的销售额，而且还可能产生新的竞争对手。如果 ASML 不再是关键设备的唯一供应商，那么牛市理论将被大大削弱，ASML 可能不得不放弃一些原本属于自己的一些销售。

该股在今年年初至今累计涨幅超过 70%。在这一点上，大部分好消息都应该被考虑进去。在经过如此长时间的攀升之后，该股可能会出现回调，这可能是由于美国政府对中国的出口限制而触发的。

话虽如此，牛市仍然适用于 ASML。ASML 可能会在某个时候失去一些市场份额，但在大多数地方应该不会中断业务。中国市场规模庞大，但不是唯一的市场。从长远来看，ASML 应该能够保持增长。及时在前进的道路会有一些坎坷，公司也可能更上一层楼。