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铠侠和西部数据将于6月展示超过300层的3D NAND
据外媒eeNewsEurope报道,铠侠和西部数据将于今年6月展示超过300层的3D NAND。报道称铠侠将在6月11日-16日于日本京都举行的2023年VLSI技术和电路研讨会上发布C2-1论文,介绍8平面(eight-plane)的1Tb 3D TLC NAND,具有超过210个有源层(active layers),接口速率为3.2GT/s。该IC和两家公司合作开发218层1Tb 3D TLC NAND设备非常相似,具有17Gb/mm^2 密度,只不过从4平面升级为8平面。铠侠表示这款3D NAND程序吞吐量为205MB/s,读取延迟为40μs。新论文显示,铠侠的1Tb 3D TLC NAND设备通过将X方向的数据查询区域减少到41%,实现了3.2GT/s 的接口速度,从而实现了内存和主机之间更快的数据传输。铠侠还实施了一种单脉冲双选通技术,允许在单个脉冲内感测两个存储单元,从而将总感测时间减少18%。两家公司还通过拉长垂直沟道长度(vertical channel length),采用金属诱导横向结晶(MILC)技术,实现超过300层的3D NAND。根据T7-1论文描述,MILC技术能够让垂直存储孔内创建单晶 14 微米长的「通心粉状」硅(Si)通道。这种实验性3D NAND IC还利用尖端的吸镍方法消除硅材料中的杂质和缺陷,从而提高单元阵列性能。在不牺牲电池可靠性的前提下,读取噪声至少降低了40%,通道电导增加了10倍。点击此处关注,获取最新资讯!


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