6月30日,荷兰政府正式公布最新半导体设备管制措施,要求先进芯片制造设备业者,出口DUV(深紫外光)光刻机都必须申请许可,虽然相关管制措施没有提到中国或ASML,但是相当于限制ASML的DUV光刻机出口到中国,并预计管制措施将在9月1日生效。荷兰外贸部长施莱纳马赫表示,荷兰政府采取半导体设备管制措施,主要是出于国家安全考量,受影响的企业现在知道自己的立场是件好事,因为这样就能及时适应新的规定。荷兰政府祭出最新半导体设备管制措施,虽然具体没有提到中国或ASML,但是因为ASML是半导体供应链关键厂商,几乎垄断先进芯片制造设备的市场,因此管制措施要求ASML出口DUV光刻机到中国都必须事先申请许可,等于限制ASML三种型号的曝光机出售给中国。管制措施锁定的是ASML三款DUV光刻机,型号为TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i和NXT:2100i,属于ASML第二先进的设备,而最先进的极紫外光光刻机(EUV)已在今年3月限制对中国出口。管制措施的消息冲击ASML 股价一度跌逾2%,但是ASML之前就有发表声明表示,未来ASML要出口最先进的DUV设备时都必须向政府申请许可,而相关措施对2023 年度,甚至更长期的财务展望,并不会有重大的影响。
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